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Visión editorial Tramo Uno
Mined from Scientific Literature: Process Schemas for Atomic Layer Deposition and Etching in Materials Science
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arXiv:2609.12139v1 Announce Type: new Abstract: Atomic layer deposition (ALD) and atomic layer etching (ALE) are reported heterogeneously across experimental and simulation literature in materials science, hindering comparison and machine-actionable reuse. We present four domain-expert-reviewed JSON Schemas for ALD and ALE experimental and simulation process
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Lectura Tramo Uno: los cambios en IA suelen trasladarse a costos, empleo y competencia en la región; vale evaluar impacto en estrategia digital local.
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